Beschichtungsanlage zum Isolierglas(Low-E-Glas)

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NorthGlass horizontale architektonische Beschichtungsanlage produziert hauptsächlich beschichtetes Low-E Glas, Sonnenschutzglas, AR-Film, etc. mit dem Magnetron-Sputterverfahren, durch das verschiedene Materialien auf der Basisplatte abgeschieden werden.

Technische Eigenschaften

Das identische 795mm-Design der Vakuumkammern ermöglicht den Nutzern, den Standort der Pumpen, Gastrennung und Kathodenräume frei zu wechseln und damit die Flexibilität steigern.
Das neue Design der Gastrennungsvorrichtung vermeidet, dass das Gas zwischen den Kathodenräumen treibt und bewirkt eine bessere Wirkung der Gastrennung.
Das extrudierte Aluminium-Stützrohr lässt das Magnet und seinen Joch von dem kühlenden Wasser isolieren, um die Änderungen des Magnetfeldes aufgrund des langzeitigen Einweichs im Wasser zu verhindern.
Mit 5-9 vielfältigen Prozessgas-Hilfssystemen ausgestattet. Jedes kann je nach Anforderungen unterschiedlich sein.
Die Hochpräzision-Fördersteuerung wird von Servomotoren garantiert.
Das Volumen der Einlauf- und Auslaufkammern wird verringert, um Effizienz zu erhöhen und Kosten zu reduzieren.
Ein integrierter Kathodendeckel erreicht die perfekte Kombination, indem er die Gas-Sammelleitung, Gasregler und Gasanschlüsse für Stromversorgung und verschiedene Medien in einen "Box" bringt, um die Prozessgestaltung flexibler zu machen.
Jede Kathode wird mit einem unabhängigen Steuerungsystem ausgestattet.
Das einteiliges Design des Deckels vereinfacht die mechanische und hydraulische Hebung und ermöglicht damit eine bessere automatische Steuerung.
Mithilfe fortschrittlicher Magnet-Turbomolekularpumpen und Schraubenspindelpumpen wird die Verschmutzung des Öl-Rückflusses verhindert und die Anlage wird verlässlicher und effizienter.

Technische Parameter

	SE2540H-Serie	SE3300H-Serie
Substrat	Floatglas, bearbeitetes Glas, laminiertes Glas, etc.
Substratgröße	Max. 2540 × 3660mm (maßgeschneidert)	Max. 3300 × 6000mm (maßgeschneidert)
Substratdicke	3-19mm (maßgeschneidert)
Zykluszeit	> 20s	> 30s
Endvakuum	< 2E-6mbar
effektive Maschinenlaufzeit	> 95%
Filmgleichmäßigkeit	≤ ± 1.0%